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一張附圖引發(fā)的專利授權

發(fā)布時間:2022-03-24 來源:精金石知識產(chǎn)權 閱讀量:127

說明書附圖等于申請人的第二種語言,附圖所能提供的技術信息是非常大的,甚至優(yōu)于文字。當申請人用語言無法清楚的表達技術方案時,一個附圖就能夠直觀的、形象地表達出整體技術方案。對于機械領域中的專利申請,說明書附圖的作用尤為明顯。

根據(jù)《專利法》第五十九條第一款的規(guī)定:發(fā)明或者實用新型專利權的保護范圍以其權利要求的內(nèi)容為準,說明書及附圖可以用于解釋權利要求的內(nèi)容。可見,國家知識產(chǎn)權局對專利申請進行審查時,是將說明書的文字部分和說明書附圖作為一個整體進行審查的。

我們答復創(chuàng)造性的審查意見時,通常是將權利要求進行合并形成新的技術方案,或者將說明書記載的而權利要求中沒有記載的技術特征補入權利要求中,往往會忽略附圖的作用,下面結合實際案例,詳細闡述說明書附圖對機械領域發(fā)明專利創(chuàng)造性的影響。

【案例介紹】

申請?zhí)枺?021106435365

專利名稱:一種熱裂解溫度控制裝置

本申請公開文本中的權利要求1為:

一種熱裂解溫度控制裝置,包括溫控板、至少兩組溫度控制模塊,其特征在于:所述溫度控制模塊包括加熱塊、溫度控制器、溫度傳感器,所述加熱塊上設置有放置容器的孔位,所述加熱塊下側(cè)緊密設置有溫度控制器,所述加熱塊設置于所述容器的下側(cè),所述加熱塊、溫度控制器固定設置于所述溫控板,所述溫度傳感器設置于所述加熱塊內(nèi)側(cè)。

第一次審查意見通知書中,審查員認為對比文件1公開了PCR模塊,其溫度控制裝置包括溫控板、加熱塊,加熱塊上設置孔位,加熱塊設置于容器下側(cè)。對比文件2公開了溫度傳感器、溫度控制器。在對比文件1的基礎上結合對比文件2以及常規(guī)設置能夠得到本申請技術方案。

對于第一次審查意見的答復,將說明書中的內(nèi)容補入了權利要求中,修改后的權利要求如下:

一種熱裂解溫度控制裝置,包括溫控板、至少兩組溫度控制模塊,其特征在于:所述溫度控制模塊包括加熱塊、溫度控制器、溫度傳感器,所述加熱塊上設置有放置容器的孔位,所述加熱塊下側(cè)緊密設置有溫度控制器,所述加熱塊設置于所述容器的下側(cè),所述加熱塊、溫度控制器固定設置于所述溫控板,所述溫度傳感器設置于所述加熱塊內(nèi)側(cè);所述溫度控制器設置于所述加熱塊的容納容器的孔位之間,一個溫度控制模塊中設置有一個加熱塊、六個容器、三個溫度控制器;所述溫度控制器為帕爾貼;所述溫度控制模塊還包括碳膜,所述碳膜設置于所述容器下側(cè),所述碳膜與所述容器一一對應,所述加熱塊的容納所述容器的孔位為通孔。

意見陳述書中,從溫度場的梯度分布方面分析了本申請中的溫度分布更加均勻,結果等來了第二次審查意見通知書,審查員認為本申請雖然和對比文件有區(qū)別,但是并無任何預料不到的技術效果。說明書的文字部分也沒有其他區(qū)別特征了,小編就在愁眉不展時,從說明書附圖中看到了轉(zhuǎn)機,經(jīng)過仔細對比本申請和對比文件的附圖,找出了另一個新的區(qū)別特征:本申請中所有的容器僅有一列,對比文件中容器是矩形陣列。

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并且,由于本申請?zhí)峁┝溯S測圖、主視圖、左視圖,這一區(qū)別特征能夠從附圖中毫無疑義的得出,不存在超范圍的問題。所以,在第二次答復時重點陳述了這一區(qū)別特征帶來的技術效果,并結合原理進行了詳細陳述,其中部分陳述內(nèi)容如下:

本領域技術人員公知,在進行多孔板尤其是96和384孔板細胞培養(yǎng)時,細胞在孔板中的位置會影響到細胞的生長狀態(tài),特別是處在周邊以及四個角的孔中細胞通常會表現(xiàn)出分布不均等現(xiàn)象,稱為"邊緣效應"。該現(xiàn)象在酶聯(lián)免疫反應中尤為常見,表現(xiàn)為96孔板的外周孔顯色較中心孔深。

同樣在本申請涉及的熱裂解溫度控制中,也具有邊緣效應,因此,本申請將容器設置為一列,使得各容器所處的加熱環(huán)境和散熱環(huán)境之間的差異最小,最大化減少邊緣效應引起的熱裂解不均勻;而對比文件1中容器為矩形陣列設置,處于散熱器中心位置的容器和處于散熱器周邊尤其四角的容器,所處環(huán)境差異較大,進而造成明顯的邊緣效應,導致熱裂解不均勻。

最終審查員認可了這一修改并且獲得了授權。

【案例啟示】

1、進行專利申請文件的撰寫時,尤其是機械領域的專利,盡可能提供詳細的、完整的附圖,例如裝配圖、爆炸圖、軸測圖、局部圖以及不同觀察角度的三視圖,并且盡量將附圖中的所有零件使用附圖標記進行標記。

2、不僅僅要展示與發(fā)明點相關的附圖,發(fā)明點以外的結構也盡量展示清楚,能夠為后續(xù)的修改和答復留下更多的依據(jù)。


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