大家好，我是入職知識產(chǎn)權(quán)行業(yè)（具體涉及一個名為精金石的大家庭！XD）的一位新人！入職以來，我跟隨了許多前輩和老師學(xué)習(xí)很多有關(guān)發(fā)明專利撰寫的知識和經(jīng)驗，由于涉及內(nèi)容比較多，在學(xué)習(xí)和工作過程中也遇到了許許多多的困難、錯誤與懷疑。

通過一段時間的學(xué)習(xí)和工作積累，終于也能不再帶著懷疑和畏難去面對工作；經(jīng)過整理與反思，我發(fā)現(xiàn)工作中的許多困難源于本科和研究生中的一些思維習(xí)慣與專利撰寫并不一致，因此希望可以通過這次公眾號供稿的方式與同為新人的大家進行交流學(xué)習(xí)，規(guī)避誤區(qū)；也歡迎各位老師批評指正。

接下來讓我們開始正題：

正如“學(xué)以致用”，我將從以“學(xué)”和“用”兩方面分享學(xué)習(xí)和撰寫兩方面的思維誤區(qū)。

在本文中主要論述有關(guān)學(xué)的目標的內(nèi)容。

對于學(xué)的目標，按照大學(xué)期間的習(xí)慣，那必然是先跟一波網(wǎng)課，再刷一大波練習(xí)題，目標就是將所謂的“考點”和“高頻考題”弄得明明白白，最后去答完一張試卷。但是到了發(fā)明專利撰寫的角度，事情就變得不一樣了，目標好像只是：將技術(shù)交底撰寫為一篇專利申請文本。

專利申請文本就像一個試卷，對包括權(quán)利要求書、說明書等內(nèi)容撰寫的考察；再細分一點，包括對權(quán)利要求書中獨權(quán)、權(quán)利要求書中從權(quán)、說明書發(fā)明名稱及說明書技術(shù)領(lǐng)域等內(nèi)容撰寫的考察。

此時，按照學(xué)校學(xué)習(xí)期間的思路，結(jié)果必然是：學(xué)習(xí)權(quán)利要求書獨權(quán)的撰寫、學(xué)習(xí)權(quán)利要求書從權(quán)的撰寫并學(xué)習(xí)說明書中一系列內(nèi)容的撰寫；這當然是學(xué)習(xí)專利撰寫的必經(jīng)之路，但是在此基礎(chǔ)上如果沒有樹立學(xué)習(xí)目標就很容易限入執(zhí)著于撰寫格式的誤區(qū)。

我認為專利撰寫中最重要的學(xué)習(xí)目標，就是建立以《專利法》法條為中心的思維。

雖然發(fā)明專利撰寫本身是圍繞著《專利法》展開的，但如何圍繞《專利法》學(xué)習(xí)撰寫卻并不簡單，法條的設(shè)置思路與在學(xué)校學(xué)習(xí)大相徑庭，在學(xué)校中往往我們學(xué)習(xí)的是學(xué)習(xí)一個規(guī)則，如“+”的使用，我們可以在此規(guī)則下知道2+2的結(jié)果是4；而法條卻不一樣，其重視的更傾向于結(jié)果：即需要一個以4為結(jié)果的計算式，此時便不再拘泥于2+2，也可以2*2或是6-2等。

簡單來說，學(xué)校中的思維是“過程確定，且結(jié)果確定”的，但法條中的思維是“結(jié)果確定，但過程不太確定”。

以眾所周知的《專利法》二十二條第三款為例：

創(chuàng)造性，是指與現(xiàn)有技術(shù)相比，該發(fā)明具有突出的實質(zhì)性特點和顯著的進步，該實用新型具有實質(zhì)性特點和進步。

有關(guān)上述創(chuàng)造性的內(nèi)容有多確定呢？確定到所有的授權(quán)文本都是滿足其要求的。

但是有關(guān)創(chuàng)造性認定的過程有多么不確定呢？即便是經(jīng)驗豐富的代理人老師有時也難以準確的確定一個專利是否可以克服有關(guān)創(chuàng)造性的實質(zhì)問題獲得授權(quán)；并且可以衍生出審查意見答復(fù)、復(fù)審及專利無效的相關(guān)工作；即便是在專利撰寫過程，專利的創(chuàng)造性的認定也跟代理人與申請人和/或發(fā)明人的溝通、以及技術(shù)交底的理解和累計的工作經(jīng)驗息息相關(guān)——可以說是相當不確定了。

專利新人在學(xué)校學(xué)習(xí)的“確定”思維向《專利法》中一些“不確定”思維的適應(yīng)中，就會出現(xiàn)形形色色的問題，比如：

專利創(chuàng)造性如何確定？

如何有效的通過三步法初步確定交底的創(chuàng)造性？

如何通過最接近的現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容適應(yīng)性的撰寫文本和補充實施例提高創(chuàng)造性？

顯著的進步和突出的實質(zhì)性特點與三步法的關(guān)系？

而以上四個問題，從主觀和客觀的統(tǒng)一性（即根據(jù)個人學(xué)習(xí)和經(jīng)驗確定的問題答案可以與大多數(shù)行業(yè)同事或老師基本達成一致）同樣是“不確定”的，對于每個新人來說，需要在長期的專利撰寫工作中進行學(xué)習(xí)和積累才能很好的解答；此時，更重要問題是：

有沒有一種確定的學(xué)習(xí)思路，可以幫助我們更“確定”的度過前期的工作和學(xué)習(xí)呢？

當然是有的，這也是本文所要真正表達的內(nèi)容——建立以《專利法》法條為中心的思維，這主要由于以下兩點：

一、為什么需要中心？

作為專利新人的角度來看，目前的學(xué)習(xí)方法是結(jié)合案例進行學(xué)習(xí)、撰寫并在經(jīng)驗豐富的老師指導(dǎo)下修正錯誤，在不斷的修改、再學(xué)習(xí)和再撰寫中完成一個個撰寫工作和學(xué)習(xí)的輪回，但是在實際的工作中接觸到的問題和學(xué)習(xí)的內(nèi)容往往針對具體問題來學(xué)習(xí)的，而非直接可以領(lǐng)會《專利法》的思路和細節(jié)，是一個“以表及里”的過程：

以筆者為例，出現(xiàn)的問題有：

1.實施例的設(shè)置，并沒有充分支持權(quán)利要求書要求保護范圍；

2.一個權(quán)利要求中包含了兩個句號；

3.從屬權(quán)利要求的主題與所引用的獨立權(quán)利要求不一致；

4.獨立權(quán)利要求中還記載了很多非必要技術(shù)特征.......

可見，以上1和3問題或許可能在犯錯1-2次內(nèi)即可得到完全修正；而問題2和4則需要一段時間的學(xué)習(xí)和經(jīng)驗的積累才會有所改善，比如其中提到的“必要技術(shù)特征”在細則20.2中被提到，具體為：

獨立權(quán)利要求應(yīng)當從整體上反映發(fā)明或者實用新型的技術(shù)方案，記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。

而在《專利審查指南》2021修改版中98頁對必要技術(shù)特征進行了解釋：必要技術(shù)特征是指，發(fā)明或者實用新型為解決其技術(shù)問題所不可缺少的技術(shù)特征，其總和足以構(gòu)成發(fā)明或者實用新型的技術(shù)方案，使之區(qū)別于背景技術(shù)中所述的其他技術(shù)方案。

可見，當我們要真正的寫出一個記載必要技術(shù)特征的權(quán)利要求時，需要對“技術(shù)問題”、“必不可少”、“技術(shù)特征”和“總和足以構(gòu)成...技術(shù)方案”和“區(qū)別”有一定的理解。

又如上述的“技術(shù)問題”，又是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)而定的，在需要對比的現(xiàn)有技術(shù)發(fā)生變化的情況下，技術(shù)問題也會產(chǎn)生相應(yīng)的變化。

可見，僅僅是對于“必要技術(shù)特征”這一個簡單詞語的理解，在不同情況下是富于變化的，在專利撰寫學(xué)習(xí)初期，無論認定的對與錯，我們必然會在不同案件的撰寫過程積累大量的如“必要技術(shù)特征”的撰寫學(xué)習(xí)素材，所謂素材，即未加梳理總結(jié)的工作經(jīng)驗（表，現(xiàn)象），而素材的累計必然需要進行梳理和總結(jié)，化為我們本身的工作能力。此時，我們便需要一個中心（里，本質(zhì)）幫助我們進行梳理。

二、中心有什么好處？

中心，即與四周距離相等的位置，從專利的角度來看，這可以保持我們對“極端”的理解，避免進入“極端”；而在思考問題時，作為新人往往會因為針對性的學(xué)習(xí)和接觸內(nèi)容限入“極端”，在此筆者分別簡單例舉了一種導(dǎo)致“極端”的主觀因素和客觀因素：

主觀因素：在工作初期，往往在撰寫過程中對于上述“不確定”的內(nèi)容感到不理解，以“必要技術(shù)特征”為例，新人在無法良好站位“申請日前、本領(lǐng)域技術(shù)人員和所要解決的技術(shù)問題出發(fā)”（即前提條件不明確的情況下），經(jīng)常會出現(xiàn)“學(xué)習(xí)了相關(guān)內(nèi)容但仍然沒取得良好效果，理解必要技術(shù)特征，進而認為是學(xué)習(xí)內(nèi)容不足需要繼續(xù)學(xué)習(xí)”的“極端”；

客觀因素：發(fā)明專利的撰寫工作中必然會受到審查員反饋的影響，即作為新人在閱讀審查意見通知書或?qū)彶橐庖娡ㄖ獣M行答復(fù)時會影響撰寫策略和習(xí)慣的養(yǎng)成，而目前超過90%的審查意見通知書中記載的都是創(chuàng)造性問題，難免會對專利新人限入“過分注重創(chuàng)造性”的“極端”產(chǎn)生很大的推動作用，影響代理人對于專利撰寫的基礎(chǔ)-技術(shù)方案（技術(shù)問題/技術(shù)手段）、其潛在的發(fā)明點以及如何撰寫便于審查員充分認識和理解技術(shù)方案等重要內(nèi)容的重視程度。

因此，明確中心可以幫助專利新人以更大的視野認識專利撰寫——即使是十分重要的發(fā)明的“創(chuàng)造性”，也僅在《專利法》被提及了一次，仍有大量內(nèi)容等待我們圍繞這個中心去學(xué)習(xí)。

綜上所述，在明確了“建立以《專利法》法條為中心的思維”的重要性的情況下，筆者在此簡單分享一下曾經(jīng)幫助我許多的一個學(xué)習(xí)思路：

1.梳理技術(shù)方案，涉及的法條為：A2.3，基于該法條，需要拆解并明確該法條中提及的如“要解決的技術(shù)問題”、“技術(shù)手段的集合”以及“技術(shù)特征”等內(nèi)容的定義，為后續(xù)的法條理解打好基礎(chǔ)；

2.駁回或授權(quán)的判斷，涉及的法條為：A38、A39等，基于這些法條，可以明確駁回是需要駁回理由的，即授權(quán)是未發(fā)現(xiàn)駁回理由的情況下進行的，需要進一步關(guān)注有關(guān)駁回理由的內(nèi)容；

3.核實駁回理由，涉及的法條（發(fā)明專利）為：A35，基于此法條，我們可以發(fā)現(xiàn)，發(fā)明專利申請經(jīng)實質(zhì)審查應(yīng)當予以駁回的情形是指：(一)申請屬于專利法第五條、第二十五條規(guī)定的情形，或者依照專利法第九條規(guī)定不能取得專利權(quán)的；(二)申請不符合專利法第二條第二款、第二十條第一款、第二十二條、第二十六條第三款、第四款、第五款、第三十一條第一款或者本細則第二十條第二款規(guī)定的；(三)申請的修改不符合專利法第三十三條規(guī)定，或者分案的申請不符合本細則第四十三條第一款的規(guī)定的；

此時，我們便可以進一步明確在完整的《專利法》中，哪些內(nèi)容是在發(fā)明專利撰寫中需要明確的，提高學(xué)習(xí)的針對性。

4.設(shè)計說明書及權(quán)利要求書等內(nèi)容，從專利撰寫角度落實上述需要在發(fā)明專利撰寫中明確的內(nèi)容。

基于上述學(xué)習(xí)思路，我們可以有目的的在《專利法》的基礎(chǔ)上梳理經(jīng)驗、學(xué)習(xí)內(nèi)容、針對性的閱讀《審查指南》并避免限入夸大專利中部分要素的“極端”。

希望本文可以幫助同為新人或正在學(xué)習(xí)專利撰寫的大家！